ATTO10-RE 高真空电阻热蒸发&电子枪镀膜机


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ATTO10-RE 高真空电阻热蒸发&电子枪镀膜机

型号

EVAP400S

主真空室

方形前开门结构,尺寸L×W×H:400×400×550mm

进样室(选配)

开门结构,尺寸约为ø200 X 300mm

真空系统配置

主真空室

复合分子泵、机械泵、气动闸板阀

进样室

机械泵、分子泵、阀门

极限压力

主真空室

≤6. 67x10-5pa(经烘烤除气后)

进样室

≤6.67X10-4 pa(经烘烤除气后)

恢复真空时间

主真空室

30分钟可达到6. 6x10-4 pa(系统短时间暴露大气并充干燥 氮气开始抽气)

进样室

30分钟可达到6. 6x10-3 Pa (系统短时间暴露大气并充干燥 氮气开始抽气)

电子枪

E型磁偏转270°电子枪,单枪单电源功率:8KW;加速电压:6kv、10kv两档可切换,束流:0~0.6A可调,Y方向偏转,X、Y方向扫描,配手持控制盒;四穴坩埚,每个容积20ml,电动换位,面板有位置显示。

基片加热台

样品尺寸

ø3英寸

运动方式

基片可连续回转,转速0-30rpm

加热

基片加热最高温度800℃±1℃

挡板形式

进口SMC转角气缸控制

*可选部件

 

 

膜厚仪

国产/进口

静音气泵

无油润滑

计算机控制系统

自动控制、工艺读入、参数设置、实时监控等功能

设备占地面积

主机

1800X1200mm2