检漏依据GB T 32218-2015对箱体进行检测，≤1x10-10PaL/s的标准进行最终验收测试。

采用 “分子泵+机械泵”高真空系统:

规格：旋片真空泵,  配带油雾过滤器, 带气镇控制

流量：36 m³/h (21 cfm), 双基片,真空度< 2 x 10^-3 mbar  或干泵(可供选择)

* 可选配干式真空泵

从大气抽至9×10^-4Pa≤30min（短时间暴露大气，冲入干燥氮气后开始抽气）

主阀：CC-200,高真空电气联动插板阀；

前级阀/旁路阀：GDQ-40高真空气动挡板阀；

“两低一高”（两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空） 数显复合真空计，测量范围从1×10⁵Pa到1×10^-5Pa；由PC显示和控制，可实现操作互锁联动。

* 可选配进口宽量程真空变送器

部分采用金属密封，部分采用氟橡胶圈密封；

采用水冷铜电极+蒸发舟结构， 蒸发源间均设有防污染隔板且每个源均配有定位挡板，智能PC控制；

0~3000W ，电流通过逆变式调控，稳定可靠。电源功率在0~最大功率之间连续可调。

2台，自动切换控制

采用有机升华束源炉，每支蒸料可装 5CC，上部有挡热板，防止蒸发舟热量向上辐射，蒸发源之间设有防温度干扰装置（方便取放，方便清洗维护）。

2台

0~800W

2台

能够有效解决镀膜的准确、稳定和可靠性。

完善的程序互锁，完备的防误操作设计及保护；系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。

镀膜工艺、工序、膜厚设置均在PC上，可实现全过程自动化控制，可在PC上设定镀膜工艺，记录数据。

冷却水路8进8出，总进水采用水压继电器控制。

总进水与出水接1P制冷循环水机，控温范围10–25 ℃。给靶、金属源、分子泵、磁流体提供稳定的制冷循环水，保证设备稳定运行。

ISO9001认证、CE认证、UL认证