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磁控溅射系统(三靶共溅射)
型号EVAP400S主真空室方形前开门结构，尺寸L×W×H:400mm×400mm×450mm真空系统配置主真空室复合分子泵、机械泵、气动闸板阀极限压力主真空室≤6. 67x10-5pa(经烘烤除气后..
磁控溅射系统(三靶共溅射)
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