ATTO3-SG 高真空磁控溅射镀膜机&手套箱


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北京帕托真空技术有限公司是一家集研发、生产、销售、服务于一体,以真空镀膜机、分子泵生产、辅材料销售、镀膜材料、配件、设备技术服务的综合性公司。公司主要从事各种真空镀膜机的技术服务,同时也为客户提供各种镀膜用材料、配件等,代理日本进口的灯丝及其他光学用材料。

北京帕托真空技术有限公司主营:真空获得设备和真空镀膜设备的生产制造和技术服务,提供真空设备所需的腔体(Chamber),分子泵等部件、真空系统的设计与加工;真空镀膜设备用备品备件及真空泵油等;提供电气控制类产品的设计、加工和调试;研发、生产和销售高端镀膜材料;提供进口镀膜设备的维修、维护保养和技术支持等服务。

北京帕托真空技术有限公司有非常专业的技术服务团队,客服人员均曾在知名品牌镀膜设备公司从事过多年的技术服务,积累了丰富的经验,在设备故障判断和处理上能有效做到准确快速地对应。在服务管理上,帕托真空针对不同的项目均有完善规范的操作流程,以不辜负客户的委托和信任。

北京帕托真空技术有限公司非常注重技术创新,立足于服务客户的宗旨,以优质服务满足客户的需求。本公司秉承“顾客至上,精益求精”的经营理念,坚持“客户第一”的原则为广大客户提供优质的服务。

ATTO3-SG 高真空磁控溅射镀膜机&手套箱

真空镀膜室

描述

玻璃钟罩+304不锈钢真空室底座

尺寸: Φ300×H450mm;

体积0.03m³

极限真空

≤6. 67x10-5pa (2×10-7Torr) (经烘烤除气后)

恢复真空时间

≤6.67X10-4 pa(经烘烤除气后)

泄漏率

检漏依据GB T 32218-2015对箱体进行检测,≤1x10-10PaL/s的标准进行最终验收测试。

真空系统
描述

采用 “分子泵+机械泵”高真空系统:

分子泵抽速:1200L/S,真正的准无油真空系统,采用下抽气,避免了分子泵的抽气弱点,提高了抽速;分子泵保修5年,提供损坏直接换新服务。
 * 可选择进口分子泵
真空泵

规格:旋片真空泵,  配带油雾过滤器, 带气镇控制

流量:36 m³/h (21 cfm), 双基片,真空度-3 mbar  或干泵(可供选择)

* 可选配干式真空泵

工作电压AC 230 V / 50-60 Hz, 10 A 或AC 115 V / 50-60 Hz, 20 A (可供选择)
抽速

从大气抽至9×10-4Pa≤30min(短时间暴露大气,冲入干燥氮气后开始抽气)

阀门

主阀:CC-200,高真空电气联动插板阀;

前级阀/旁路阀:GDQ-40高真空气动挡板阀;

真空测量

“两低一高”(两只电阻规测量低真空,一只电离规测量高真空) 数显复合真空计,测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa;由PC显示和控制,可实现操作互锁联动。

* 可选配进口宽量程真空变送器

真空测量

部分采用金属密封,部分采用氟橡胶圈密封;

2"永磁磁控溅射靶
               (靶材尺寸直径50.8mm)

结构

向心溅射,磁控靶与样品的距离90~140mm 可调,各靶有良好的水冷且DC/RF/MF兼容;

电动控制挡板组件:1套

配有屏蔽罩,以避免靶材之间的交叉污染(非共溅时安装使用);

可折向上面的样品中心,靶与样品距离可调;

电源PID智能温控蒸发电源,带有蒸发源测温和功率调整系统,可以进行实时测温与控温,温度控制精度±1℃。

数量

2台

控制系统
描述采用windows操作平台和cotrl2000控制系统,采用IPC+network技术,实现整机主要部件的参数化设置、实施实时监控及故障智能诊断以及膜厚全自动监控,有自动和手动控制两种模式。除取放样品外,其它操作过程全部在PC上使用软件控制;提供真空系统、工艺设置、充放气系统等友好人机操作界面;在工控机上可通过配方设置参数,实现对程序工艺过程和设备参数的设置、储存和打印。
特点

能够有效解决镀膜的准确、稳定和可靠性。

完善的程序互锁,完备的防误操作设计及保护;系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。

采用丰富I/O接口设计,充分满足扩展与外连设备的功能需求。

显示控制镀膜机的舱门开启/关闭。

镀膜工艺、工序、膜厚,方便并且保存打印。

膜厚监测、控制系统

描述采用石英晶振膜厚控制仪,水冷膜厚探头安装在基片台附近,工控机连接。膜厚仪用以实时监测镀膜速率和终厚,精度可达±1A(0.1nm),实时信息反馈给工控机 ,若镀膜达到设置厚度,可自动控制电源,停止镀膜,实现自控膜厚之目的。
范围监测厚度范围:1Å~99µ9999Å,分辨率1Å;监测速率范围:0.1Å~9999.9Å.S/s,分辨率0.1Å

特点

镀膜工艺、工序、膜厚设置均在PC上,可实现全过程自动化控制,可在PC上设定镀膜工艺,记录数据。

水冷系统

描述

冷却水路8进8出,总进水采用水压继电器控制。

总进水与出水接1P制冷循环水机,控温范围10–25 ℃。给靶、金属源、分子泵、磁流体提供稳定的制冷循环水,保证设备稳定运行。

选配设备

3"永磁控溅射靶(靶材尺寸D76.2mm)向心溅射,磁控靶与样品的距离90~110mm 可调,有良好的水冷且DC/RF/MF兼容
2"强磁控溅射靶(靶材尺寸D56.8mm)强磁设计,向心溅射,磁控靶与样品的距离90~110mm 可调,有良好的水冷且DC/RF/MF兼容
3"强磁控溅射靶(靶材尺寸D76.2mm)强磁设计,向心溅射,磁控靶与样品的距离90~110mm 可调,有良好的水冷且DC/RF/MF兼容
射频切换器设计1切换2的换挡档位功能(即1套电源可非同时供2套磁控溅射靶使用),换挡前后一般不需要调整电源除功率设定等之外的其它参数。
其他说明
产品认证

ISO9001认证、CE认证、UL认证

质保期一年质保期,终身维修
应用注意事项详情参阅说明书危险、警告、注意等条款
包装尺寸(W×D×H) 
重量